(1)氧化膜构成阶段。初期，合金快速地被氧化，此间氧化速度较大，之后氧化速度开端减慢；当外表构成一层接连的氧化膜时，氧化速度持续减慢，氧化就进入第二阶段。

　　在此阶段氧化速度与时刻的关系对错线性的，氧化膜为申层结构。

　　构成氧化膜的初期，合金中的铯、硅、铬和其他易氧化元素敏捷同氧结合构成相应的氧化物，这些氧化物附着仵合金的外表，构成接连的氧化膜.同时，合金内部的铝、硅、铬等元素向外表扩散，并富集在初生的氧化膜下

　　(2)氧化膜安稳阶段。当合金外表构成一层接连的氧化膜后，氧持续向合金内部的渗透速度下降。这时，仍有少量氧能够通过氧化膜同富集在膜下的合金元素发生氧化反应，构成内氧化层&

　　在此阶段合金以很慢的速度氧化，通过长时刻高温效果之后，氧化膜的致密度増加，厚度增加，合金的氧化与时刻呈线性关系，氧化膜变成内外两层双层结构。氧化膜安稳阶段时刻越长，合金的运用期也就越艮。

　　(3)氧化膜损坏阶段。当合金内氧化发展到一定的限度时，氧化膜开端产生裂纹&裂纹的呈现使大量氧进人合金内部，铁、铝、硅、铬等大董被氧化，促使氧化速度急剧增加，同时，氧化膜开端出现大童的裂纹，终究导致损坏。

　　总归，电阻带的氧化进程是反映了电热元件的损坏进程5如何建立起具有保护效果的氧化膜，发展合金的氧化安稳阶段，对延长电阻带的运用期限是具有重要意义的。